|
تفاصيل المنتج:
|
| تطبيق: | أنظمة الترسيب بالليزر النبضي (PLD) وأنظمة الرش المغنطرون بالتيار المستمر أو التردد الراديوي | قطر الدائرة: | Ø 1 "/ Ø 2" / Ø 3 "/ Ø 4" / Ø 6 "/ Ø 8" |
|---|---|---|---|
| سماكة: | 3-6 مم | الصف: | الصف SAW والدرجة البصرية |
| إبراز: | هدف رش أنظمة PLD,هدف رشاش المغنطرون RF,هدف رش ترسيب الليزر النبضي |
||
هدف الرش لأنظمة ترسيب الليزر النبضي (PLD) وأنظمة رش المغنطرون بالتيار المستمر أو الترددات الراديوية
نحن نقدم مجموعة واسعة من أهداف الرش بما في ذلك المعادن ، والسبائك ، والأرض النادرة ، والكريستال الأحادي ، والمركب ، وأهداف مختلفة من السيراميك ، مثل أكسيد ، ونتريد ، وكربيد ، وبورايد ، وكبريتيد ، وسيلينيد ، وهدف تيلورايد. مواد الهدف الاخرق المناسبة لأنظمة ترسيب الليزر النبضي (PLD) وأنظمة الرش المغنطروني DC أو RF ، يمكن تصنيع هذه الأهداف لتناسب جميع أنظمة الرش بما في ذلك الدائرية والمستطيلة و S-Gun و Delta و Ring.يمكن تصنيع هدف الرش على شكل دائري أو مربع ، مع لوحة خلفية أو بدون لوحة خلفية على نظام الرش والمواد المستهدفة لديك ، وحجمنا القياسي من 1 "إلى 12" في القطر ، وسماكة تتراوح من 1 مم ، 3 مم إلى 6 مم ، في بناء من قطعة واحدة أو متعددة.بالإضافة إلى ذلك ، يمكننا تقديم مواصفات مخصصة مصممة لاحتياجاتك الفريدة بما في ذلك ، الأبعاد ، السماكة ، النقاء ، الكثافة ، حجم الحبيبات الموحد ، معدل التركيب ، واللوحة الخلفية المختلفة.لدينا العديد من أهداف الرش في المخزون ويمكننا الماكينة وفقًا لمواصفاتك بجودة جيدة.اتصل بنا للحصول على مزيد من المعلومات .
| طريقة التصنيع | مجال التطبيق |
|---|---|
| فراغ الضغط الساخن | أشباه الموصلات |
| الضغط المتساوي الساكن الساخن | مخزن البيانات |
| الضغط المتساوي البارد | الإلكترونيات الضوئية |
| تلبيد الفراغ | الشاشة المسطحة |
| ذوبان القوس الفراغي | الخلايا الشمسية |
| نقاء | 99.9٪ / 99.99٪ / 99.999٪ |
|---|---|
| قطر الدائرة | Ø 1 "/ Ø 2" / Ø 3 "/ Ø 4" / Ø 6 "/ Ø 8" |
| سماكة | 3 مم ~ 6 مم |
| لوحة الظهر | النحاس OFHC |
| الترابط | الإنديوم / Ag الايبوكسي |
| صفقة | فراغ مختومة |
1. الهدف Boride Sputter
CrB ، FeB ، HfB2 ، LaB6 ، MgB2 ، Mo2B5 ، NbB ، SmB6 ، TaB ، TiB2 ، WB ، VB ، VB2 ، ZrB2
2. كربيد الهدف الاخرق
B4C ، Cr3C2 ، HfC ، Mo2C ، NbC ، SiC ، TaC ، TiC ، TiCN ، VC ، WC ، VC ، ZrC
3. الهدف رش الفلوريد
BaF2 ، CaF2 ، CeF3 ، FeF2 ، KF ، LaF3 ، PbF2 ، MgF2 ، NaF
4. نيتريد سبتر الهدف
AlN و BN و CrN و GaN و HfN و InN و NbN و NbCrN و Si3N4 و TaN و TiN و VN و ZnN و ZrN و ZrCN
5. أكسيد الهدف رشاش
Al2O3، ATO، AZO، BaTiO3، BSCCO، BST، CeO2، CuO، Cr2O3، Fe2O3، HfO2، In2O3، ITO، IZO، IZGO، IZTO، LaAl2O3، LaSrMnO3، LiNbO3، MgO، MobO3، Sb2O3 ، SiO ، SiO2 ، SnO2 ، SrRuO3 ، SrTiO3 ، Ta2O5 ، TiO2 ، SnO2 ، V2O5 ، WO3 ، Y2O3 ، Yb2O3 ، YBCO ، YSZ ، ZnO ، ZAO ، ZGO ، ZIO ، ZTO
6. الهدف السيلينيد سبتر
Al2Se3، Bi2Se3، CdSe، CuSe، Cu2Se، FeSe2، GeSe، In2Se3، MoSe2، MnSe، NbSe2، PbSe، Sb2Se3، SnSe، TaSe2، WSe2، ZnSe
7. Silicide Sputter الهدف
CoSi2 و CrSi2 و FeSi2 و HfSi2 و MoSi2 و NbSi2 و NiSi2 و TaSi2 و TiSi2 و WSi2 و VSi2 و ZrSi2
8. الكبريتيد الهدف الاخرق
CdS ، CuS ، Cu2S ، FeS2 ، GaS ، GeS ، In2S3 ، PbS ، MoS2 ، NiS ، TiS2 ، Sb2S3 ، SnS ، WS2 ، ZnS
9. تيلورايد سبتر الهدف
Al2Te3 و Bi2Te3 و CdTe و CuTe و GaTe و Ga2Te3 و GeTe و PbTe و MnTe و MoTe2 و NbTe2 و TaTe2 و SbTe و SnTe و WTe2 و ZnTe
اتصل شخص: Daniel
الهاتف :: 18003718225
الفاكس: 86-0371-6572-0196
